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【特集】環境対応型めっき技術の最新動向

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めっき工程におけるクローズド化技術
Closed System for Plating Process

　水質汚濁による環境汚染を防止するには,生産工程のクローズドシステムなどによって,発生源からの汚濁負荷量をできるだけ環境中に排出しないことが基本であるが,工場などから排出される汚濁水の性状は,極めて多種多様であるため,各分野において発生源の実状に最も適した処理技術を開発すべく種々の研究が行われている。本稿では,めっき工場から排出される排水を無害化するだけでなく工程内回収と再利用によるクローズド化技術について紹介する。

【目次】
1. はじめに
2. めっき工程における資源循環システム(エコノバックシステム(R))
3. 主なめっき工程における事例
　3.1　ニッケルめっき工程における資源循環システム
　3.2　クロムめっき工程における資源循環システム
　3.3　亜鉛めっき工程における資源循環システム
4. 資源化センターシステムによる水と金属資源の回収
　4.1　システムの理念
　4.2　システムの経済性と環境負荷削減効果
　4.3　分別スラッジ化と減溶化
5. おわりに

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低環境負荷のプラスチックへの無電解めっき法の確立
A New Environmentally-Bengin Electroless Plating Method for Thermoplastics

　クロム酸や強酸による前処理をせずに,超臨界二酸化炭素を援用し触媒をプラスチック部材表層に注入し無電解めっきを行えるプロセスと,無機フィラーやセルロースナノファイバーの添加による触媒の固定化機能増加を活用したプロセスの2つの環境にやさしい無電解めっきプロセス技術について紹介する。

【目次】
1. はじめに
2. 超臨界CO2を使ったプラスチックへの無電解めっき法
3. ナイロン/セルロースナノファイバーへの無電解めっき法
　3.1　封止方法
　3.2　封止部材
4. まとめ

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硬質3価Crめっき法の開発
Development of Trivalent Hard Chromium Plating Method

　毒性が問題視される6価クロムを用いた硬質クロムめっき法の代替として,硬質3価クロムめっき法の開発の現状について紹介する。6価クロムからのめっき皮膜に性質が若干及ばない点もあるが,実用に近い皮膜が得られており,また粒子を複合させたクロム皮膜を作成できる。

【目次】
1. 緒言
2. 3価Crめっき浴の概要
3. 3価Crグリシン浴の例
　3.1　めっき液組成と電析条件
　3.2　電析における反応と浴管理
　3.3　皮膜の特性
4. グリシン浴による複合めっき
5. グリシン浴による3価Crめっき実用化への現況
6. グリシン浴硬質3価Crめっきの今後の課題

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高耐食溶融Zn-6%Al-3%Mg合金めっき鋼板「ZAM」
The Highly Corrosion-Resistant Hot-Dip Zn-6%Al-3%Mg Alloy Coated Steel Sheet, ”ZAM”

　近年,溶融めっきでは工業化が難しいと考えられていたMgを数%オーダーでめっき層中に含有する溶融Zn-6%Al-3%Mg合金めっき鋼板が開発され,その優れた耐食性から様々な産業分野での用途展開が図られている。本稿では,Znめっき鋼板の防食に関する基本的な特性を概説するとともに,エコマテリアルとしての要件を数多く備えた環境に優しい材料である溶融Zn-6%Al-3%Mg合金めっき鋼板「ZAM」の高耐食性機構と用途事例について述べる。

【目次】
1. はじめに
2. Znめっき鋼板の防食の基本特性
　2.1　犠牲防食作用とZn系腐食生成物による腐食抑制効果
　2.2　腐食環境と腐食生成物
3. ZAMの高耐食性機構
　3.1　促進腐食試験における耐食性
　3.2　めっき組織
　3.3　高耐食性機構
　3.4　大気環境下での耐食性
4. ZAMの用途展開と環境対応性能
　4.1　ZAMの用途事例
　4.2　ZAMの環境対応性能
5. おわりに

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[ Material Report -R&D- ]

優れた安全性を持つ高温ガス炉を用いた熱利用技術開発の動向
Current Status and Prospect on R&D of the Heat Utilization Technology Using the High-Temperature Gas-Cooled Reactor with Superior Safety

　本報は,高温ガス炉を用いた熱利用技術開発の動向について解説したものであり,高温ガス炉の概要,固有の安全性,高効率な熱利用,広範囲な熱利用分野の可能性について述べるとともに,熱利用技術の一端であり原子力機構で実施中のガスタービン発電,ISプロセス水素製造に関する技術開発状況のほか,経済性などについて概説した。

【目次】
1. はじめに
2. 高温ガス炉について
3. 高温ガス炉の熱利用研究
　3.1　ヘリウムガスタービン発電
　3.2　ISプロセスによる水素製造
4. 高温ガス炉の経済性

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自然酸化銅を用いた脱レアメタルのスピントロニクスデバイスの開発
Spintronics Device Free from Heavy Metals Using Naturally-Oxidized Cu

　比較的安価で入手が容易な銅を自然酸化させることで,最も高性能なスピントロニクス材料の一つである白金に優るスピントルク材料となることを明らかにした。この発見により,レアメタルを使わずにスピントロニクスデバイスを実現する道が初めて開けた。

【目次】
1. はじめに
2. スピン流とスピントロニクス現象
3. スピントルク強磁性共鳴
4. 実験方法と結果
5. 結論

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光学活性有機発光体の固体円偏光発光(CPL)特性
Solid-State Circularly Polarized Luminescence (CPL) Property of Chiral Organic Luminophore

　発光には,左回転する光・右回転する光と2種類の円偏光発光(Circularly Polarized Luminescence(CPL))が存在し,一般の発光は,左回転・右回転2種類のCPLが混在している。CPLは,現在の液晶などに多用される直線偏光とは異なる光学特性を有し,各種分野での応用・利用が期待されている。本稿では,当研究室で見出した光学活性な有機発光材料の特徴的な固体CPL特性,ならびにその非古典的CPL特性制御について紹介する。

【目次】
1. はじめに
2. トリフェニルケイ素基を導入した光学活性ビナフチル有機発光体の固体円偏光発光(CPL)特性
3. キラル転写を利用した光学活性ビナフチル有機発光体の固体円偏光発光(CPL)特性
4. 光学活性ビナフチル有機発光体の固体マトリックス中における非古典的円偏光発光(CPL)増幅
5. 光学活性粘稠性ビナフチル有機発光体の固型化による固体状態円偏光発光(CPL)
6. 光学活性超分子有機発光体の創製と円偏光発光(CPL)
7. まとめ

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[ 機能材料マーケットデータ ]

界面活性剤工業の市場動向
Market Trend of Surfactant Industry

　2015年の界面活性剤工業は,2014年から国内生産・販売ともにほぼ横ばいとなった。2008年の世界不況の影響などで年々減少傾向にあったが,生産量・販売数量・販売金額全てにおいて改善し,維持している。2011年3月に発生した東日本大震災以降,先行きが不透明になっていた時期を乗り越え,さらに,消費増税の影響もある中で良い動きを見せていたが,国内や中国の景気の影響を受け,前年をやや下回る結果となった。

【目次】
1. 概要
2. 各用途分野の動向
3. 品目別需要動向
4. 輸出入動向 F61