序章
1.　はじめに
2.　CF材料の変遷
3.　顔料の分散とフォトポリマー
4.　おわりに

第1章　フォトリソグラフィー法によるカラーフィルター
1.　カラーレジスト法
1.1　はじめに
1.2　カラーレジスト法の製造フロー
1.3　カラーレジスト
1.4　カラーレジストの構成成分と化学変化
1.5　カラーフィルターの高性能化動向(高透過率化/高色純度化)
1.6　おわりに

2.　転写法(トランサーシステム)によるカラーフィルター作製技術
2.1　はじめに
2.2　トランサーシステムの概要
2.2.1　トランサーフィルムの層構成
2.2.2　トランサーによるカラーフィルター作製プロセス
2.2.3　クッション層の働き
2.2.4 酸素バリア層の働き
2.3　トランサーシステムによるフォトスペーサーの作製
2.4　基板の大型化への対応
2.5　まとめ

3.　カラーフィルター用染料と染色
3.1　はじめに
3.2　染色法によるカラーフィルターの作製の解説
3.2.1　染色基材
3.2.2　染色用染料
3.2.3　染色,防染処理
3.2.4　濃染化助剤
3.3　おわりに

4.　転写法によるプラスチックカラーフィルター
4.1　はじめに
4.2　基材としてのプラスチック
4.2.1　光学特性
4.2.2　熱特性
4.2.3　ガスバリアー性
4.2.4　カラーフィルターをプラスチック基材上へ直接形成した場合の問題点
4.3　転写法によるプラスチックカラーフィルターの製造方法
4.4　プラスチックカラーフィルターの特性
4.5　おわりに

第2章　印刷法によるカラーフィルター
1.　平板,凹版,凸版印刷
1.1　はじめに
1.2　カラーフィルターと印刷画像
1.3　平板印刷法によるカラーフィルターへの適用
1.4　凹版印刷法によるカラーフィルターへの適応
1.4.1　パッド印刷とカラーフィルター
1.4.2　転写前のインキ固化
1.4.3　直刷り凹版　
1.5　凸版印刷法によるカラーフィルターへの適用
1.5.1　凸版印刷とマージナル・ゾーン
1.5.2　凸版印刷法を使ったカラーフィルター作成事例
1.6　おわりに

2.　スクリーン印刷―高精細スクリーン印刷法を用いたカラーフィルター作製技術―
2.1　はじめに
2.2　スクリーン印刷によるディスプレイ部材印刷の技術動向
2.2.1　スクリーン印刷の形態(従来スクリーン印刷技術)
2.2.2　その他の印刷法によるディスプレイ部材製造
2.3　HADOP法で印刷型CF作製をする理由
2.4　HADOP法の特徴
2.5　HADOP印刷版の積層機能化モデル
2.6　HADOPインキの水性化
2.7　おわりに

3.　インクジェット印刷
3.1　はじめに
3.2　要素技術
3.2.1　メニスカスの精密コントロール技術
3.2.2　バンク構造による液滴のセルフアライメント技術
3.2.3　専用ヘッド
3.2.4　専用インクジェットプリンタ
3.2.5　基板技術
3.2.6　乾燥・成膜技術
3.3　おわりに

第3章　ブラックマトリックスの形成
1.　樹脂系ブラックマトリックス
1.1　はじめに
1.2　レジスト特性
1.2.1　レジストの種類
1.2.2　光ラジカル重合系Negaレジストの高感度化とその効果
1.2.3　解像力
1.3　レジストの高OD値化
1.3.1　BMレジスト用顔料
1.3.2　分散安定化
1.3.3　分散安定化による高ODレジストの塗布特性への効果
1.4　おわりに

2.　金属薄膜系ブラックマトリクス
2.1　はじめに
2.2　金属系BM膜の作製方法
2.3　金属系BM膜特性
2.4　Cr膜以外の金属系BM膜
2.5　おわりに

第4章　カラーレジスト用材料と顔料分散
1.　顔料
1.1　はじめに
1.2　RGB用有機顔料
1.3　微細化顔料の調製
1.4　顔料の表面処理
1.5　おわりに

2.　黒色顔料
2.1　はじめに
2.2　カーボンブラックの基礎的性質
2.2.1　CB粒子の微細構造
2.2.2　粒子径とその分布
2.2.3　粒子の凝集体(ストラクチャー)
2.2.4　化学的性質
2.2.5　市販されているCBの代表例
2.3　BM用顔料
2.3.1　BMについて
2.3.2　樹脂BM用CB
2.3.3　CBの分散性
2.3.4　チタンブラック系樹脂BM
2.4　おわりに

3.　分散剤
3.1　はじめに
3.2　分散剤の構造と分類
3.3　分散剤の機能
3.3.1　ぬれ性(湿潤ぬれ)
3.3.2　吸着
3.3.3　分散安定化
3.4　高分子分散剤
3.4.1　分散剤に求められる要件
3.4.2　水系での顔料分散の特徴
3.4.3　高分子分散剤の分子構造と働きの関係
3.5　高分子分散剤の動向
3.5.1　アクリル系高分子分散剤
3.5.2　ポリウレタンプレポリマー,ポリエステル系高分子分散剤

4.　ポリウレタン系,アクリル系の高分子分散剤
4.1　はじめに
4.2　分散剤の役割
4.3　吸着基の機構
4.4　ポリウレタンタイプの分散剤
4.5　アクリルタイプの分散剤
4.6　コントロールドフリーラジカル重合
4.6.1　新規CFRPのための重合制御剤
4.6.2　コントロールドブロック共重合体型分散剤の合成
4.6.3　コントロールドブロック共重合体タイプの顔料分散剤の特徴

5.　レジスト用バインダー樹脂
5.1　はじめに
5.2　カラーフィルターレジスト組成
5.3　バインダー樹脂
5.3.1　レジスト用バインダー樹脂組成(実例)
5.3.2　バインダー樹脂組成(構造例)
5.3.3　バインダー樹脂基本組成(例)
5.4　その他の樹脂
5.4.1　架橋剤
5.4.2　BLACKレジスト(例)
5.5　各種硬化性バインダー例(アクリレート系)
5.6　アクリル系オリゴマー
5.7　光硬化システム(基本機構)
5.8　光重合開始剤の例
5.9　顔料と補色顔料
5.10　アクリルモノマー(参考資料)
5.11　おわりに

6.　光重合開始剤
6.1　はじめに
6.2　光重合開始剤に対する要求特性
6.3　カラーレジストおよび樹脂ブラックマトリックス用光重合開始剤
6.4　おわりに

7.　超微粒子顔料分散技術の最適化―装置と製法―
7.1　はじめに
7.2　CF用超微粒子顔料分散液の要求性能
7.2.1　高透明性
7.2.2　分散安定性
7.3　ミルベース設計の最適化
7.3.1　ミルベースの構成
7.3.2　CF用顔料
7.3.3　高吸着型高分子分散剤
7.3.4　溶剤
7.4　超微粒子分散技術
7.4.1　前処理技術
7.4.2　適応分散機器の選択
7.4.3　超微粒子分散処理における運転条件の最適化
7.5　これからの超微粒子顔料分散技術への取り組みについて
7.5.1　CF専用顔料としての顔料化
7.5.2　顔料化における問題点と対応
7.5.3　新しい超微粒子分散技術について
7.6　おわりに

第5章　カラーレジスト法によるプロセス技術
1.　カラーフィルターライン構成と製造プロセス
1.1　はじめに
1.2　高視野角方式とライン構成
1.3　ライン構成とプロセス工程
1.3.1　BM形成工程
1.3.2　着色(RGB)パターン形成工程
1.3.3　保護膜(オーバーコート)形成工程
1.3.4　透明導電膜(ITO)形成工程
1.3.5　VAリブ形成工程
1.3.6　PS工程
1.4　ライン設計
1.4.1　全体レイアウト
1.4.2　装置寸法
1.4.3　生産能力検討例
1.5　おわりに

2.　UV洗浄装置
2.1　はじめに
2.2　UVランプの発光原理と構造と寿命
2.2.1　発光原理
2.2.2　構造と寿命
2.3　UV洗浄の原理とカラーフィルターの洗浄機構
2.3.1　UV洗浄の原理
2.3.2　低圧水銀ランプによるオゾン生成と洗浄機構
2.4　洗浄評価
2.5　UV装置設計例
2.6　アッシャー装置
2.7　耐UV性材料の開発
2.8　今後の課題

3.　湿式洗浄機
3.1　はじめに
3.2　洗浄ツールとメカニズム
3.2.1　UV(紫外線洗浄)
3.2.2　高密度ブラシ
3.2.3　CJ(キャビテーションジェット)
3.2.4　MS(超音波洗浄)
3.3　大型基板対応の最新洗浄ツール
3.3.1　H/Jツール
3.3.2　H/Mツール
3.4　低温ポリシリコン洗浄技術

4.　脱水ベーク,プリベーク,ポストベーク装置
4.1　はじめに
4.1.1　HP(ホットプレート)装置
4.1.2　IR装置
4.1.3　熱風循環オーブン装置
4.1.4　CP(コールドプレート)装置
4.2　工程別HPCP装置の用途
4.2.1　脱水ベーク用HPCP装置
4.2.2　プリベーク用HPCP装置
4.2.3　ポストベーク用HPCP装置
4.3　HPCP温度分布性能
4.3.1　HP温度分布性能
4.3.2　CP温度分布性能
4.4　昇華物対策
4.5　静電気対策
4.6　今後の課題
4.6.1　微小スポットむら対策
4.6.2　大型基板サイズの対応

5.　ノンスピン・スリットコーター
5.1　はじめに
5.2　従来塗布方式Coat&Spin®の概要と課題の克服
5.2.1　システム構成
5.2.2　従来塗布方式の課題
5.2.3　ノンスピン・スリットコートへのアプローチ
5.3　ノンスピン・スリットコート方式Spinless®
5.3.1　システム概要
5.3.2　課題の克服
5.4　おわりに

6.　スリットコーター用検査装置
6.1　はじめに
6.2　色むら検査装置
6.2.1　装置構成
6.2.2　検査項目
6.2.3　検査手法
6.2.4　まとめ
6.3　全面膜厚測定装置
6.3.1　装置構成
6.3.2　検査項目
6.3.3　検査手法
6.3.4　まとめ

7.　プロキシミティー露光装置
7.1　はじめに
7.2　露光光学系の構成
7.3　コリメーション半角とディクリネーション角
7.4　転写特性
7.5　一括露光方式
7.6　ステップ露光方式

8.　現像機
8.1　はじめに
8.2　現像ツールとメカニズム
8.2.1　高速スリットノズル
8.2.2　揺動シャワー
8.2.3　フィルター
8.2.4　切り替え式タンク
8.2.5　リンス・洗浄
8.3　基板の大型化と面内均一性

9.　熱風循環炉(ポストベーク炉)
9.1　はじめに
9.2　熱風循環炉(ポストベーク炉)に必要な性能
9.2.1　温度
9.2.2　クリーン
9.2.3　昇華物対策
9.3　おわりに

10.　ITOスパッタ装置 (杉浦功)
10.1　はじめに
10.2　インライン式ITOスパッタ装置
10.3　枚葉式ITOスパッタ装置
10.4　カルーセル式ITOスパッタ装置
10.5　おわりに

11.　大型CF基板製造ラインにおける検査・計測・修正
11.1　はじめに
11.2　CF光学式自動検査装置(写真1)
11.2.1　高速化
11.2.2 高性能化
11.3　BM,RGB膜厚測定管理
11.4　マクロムラ検査
11.5　CF欠陥修正の最新技術
11.5.1　CF欠陥修正装置マルチリペア装置(写真6)
11.5.2 インク塗布修正の特長
11.5.3 新型テープ研磨修正ユニット
11.6　フォトスペーサー(PS)高さ測定装置(写真7)
11.7　おわりに

第6章　カラーフィルターの特性評価
1.　はじめに
2.　分光特性および検査(光学特性検査・測定)
3.　消偏効果測定法
4.　耐熱性試験法
5.　耐光性試験法
6.　耐薬品性測定法
7.　カラーフィルターの表面硬度と接着性測定法
8.　白ボツとボツ(欠陥検査)
9.　表面平坦性測定法
10.　パターン位置精度測定法
11.　スカムおよびムラの測定法
12.　おわりに

第7章　カラーフィルターにおける課題
1.　画素形成に関する課題
1.1　はじめに
1.2　顔料分散レジスト法
1.3　顔料分散エッチング法
1.4　フィルム転写法
1.5　印刷法
1.6　染色法
1.7　おわりに

2.　カラーレジストの作製における課題
2.1　はじめに
2.2　カラーレジストの組成とその役割
2.2.1　顔料
2.2.2　アルカリ可溶性樹脂
2.2.3　モノマー,溶剤
2.2.4　開始剤
2.2.5　分散剤
2.3　カラーレジスト液の製造
2.3.1　ミルベースの作製
2.3.2　カラーレジスト液の作製
2.4　おわりに

3.　カラーフィルターの作製における課題
3.1　はじめに
3.2　生産面での課題
3.2.1　大型基板化
3.2.2　現像残渣
3.2.3　スリットコーター塗布
3.2.4　昇華性異物
3.3　品質面での課題
3.3.1　焼付き・白ムラ
3.3.2　高色純度,高輝度フィルター
3.3.3　樹脂ブラック上での突起
3.4　おわりに

第8章　カラーフィルターと構成部材料の市場
1.　カラーフィルター
1.1　市場動向
1.2　メーカー動向
2.　カラーフィルター用顔料分散レジスト
2.1　市場動向
2.2　メーカー動向
3.　カラーフィルター用顔料
3.1　市場動向
3.2　メーカー動向
4.　ブラックマトリックス(Cr)
4.1　市場動向
4.2　メーカー動向
5.　ブラックマトリックス(樹脂)
5.1　市場動向
5.2　メーカー動向
6.　オーバーコート剤
6.1　市場動向
6.2　メーカー動向

第9章　カラーフィルターの海外展開
1.　はじめに
2.　韓国
3.　台湾
4.　中国
5.　近年の韓国,台湾,中国のLCDの動向(一部日本を含む)
6.　おわりに